在氧化铝工业陶瓷的加工与制造过程中，抛光是提升产品精度与表面光洁度的重要工序。然而，抛光后表面常残留食用油、植物油等润滑介质及细微抛光颗粒。这些污染物若未彻底清除，不仅影响陶瓷后续镀膜、粘接、烧结等工艺效果，还可能导致性能不稳定、外观瑕疵甚至良率下降。针对这一行业痛点，我们推出了一款专为氧化铝工业陶瓷抛光后清洗设计的专用超声波清洗剂。

一、产品特点

1. 强力去油去污
   清洗剂采用多相表面活性技术与低泡有机溶复配体系，能迅速分解并乳化各类食用油、植物油等油脂类残留。相比传统碱性清洗液，本品可在中性至弱碱性条件下发挥高效清洗力，既保护陶瓷表面，又能快速恢复洁白光泽。

2. 高效分散颗粒污染
   抛光后残留的氧化铝微粉、研磨颗粒往往与油污紧密附着。本清洗剂中加入特制分散因子，能有效剥离并悬浮微颗粒，防止二次沉积，确保表面彻底洁净。

3. 与超声波设备完美配合
   清洗剂的泡沫控制与声传导特性经过优化，特别适用于各类超声波清洗设备。利用超声空化作用，可加速油污的剥离和颗粒的脱附，显著缩短清洗时间，提高生产效率。

4. 环保安全
   不含磷、重金属及有害溶剂，生物降解率高，满足当前绿色制造和环保排放要求。对操作人员安全友好，无刺激性气味。

二、使用建议

• 推荐浓度： 2%～5%（根据油污程度调整）

• 超声波频率： 28–40 kHz

• 清洗温度： 45–60℃

• 清洗时间： 3–8分钟

• 适用范围： 氧化铝、氧化锆、氮化硅等工业陶瓷件的抛光后清洗

经多家陶瓷制造企业验证，该清洗剂在去除植物油、研磨膏残留及微粉颗粒方面表现出优异效果。清洗后表面洁净度可达镜面级，水膜均匀，无水斑、无残油，极大提高了后续工艺的附着性和产品一致性。