在精密制造领域，无论是光学玻璃、显示玻璃，还是半导体硅片，研磨工序后的清洗质量，直接决定了后续镀膜、涂层或封装的良率。然而，许多企业在研磨后清洗中普遍面临这样的困扰：

• 超声波清洗不彻底，玻璃表面残留研磨液痕迹；

• 去离子水反复清洗仍有污渍、印记；

• 清洗后表面不均、影响透光率和附着力。

这不仅增加了返工成本，更影响产品的外观与性能。

针对这一行业痛点，心明阳推出了专业的“研磨后清洗剂”，专为玻璃与硅片研磨后残留物去除而设计，彻底解决“清不干净、洗不亮”的难题。

✨ 高效去污，表面洁净无痕

心明阳研磨后清洗剂采用复合有机酸与高分子表面活性成分，能快速分解研磨液中的无机微粉、氧化物及油性残留。
独特的低泡配方，在超声波作用下可深入微孔与划痕区域，有效剥离污渍、不留印记，让玻璃与硅片表面洁净如新。

🌿 安全环保，不伤基材

传统清洗剂常含强碱或氟化物，虽能清洁，却容易腐蚀基材。心明阳清洗剂采用中性至弱碱性体系，对玻璃、硅片、蓝宝石等材料安全无损，不产生水痕、斑点或腐蚀痕迹，满足高洁净度工艺要求。

⚙️ 使用便捷，兼容性强

产品可配合超声波清洗、循环喷淋清洗或浸泡清洗工艺使用。无论是单片清洗机还是批量槽式设备，均能实现快速去污、彻底漂洗。稀释比例灵活，可根据污染程度调整浓度，操作简便、经济高效。

🌍 典型应用

• 显示玻璃研磨后清洗

• 硅片、蓝宝石衬底精抛后去污

• 光学镜片、盖板玻璃精磨后表面清洁

在清洗环节的每一个细节上，心明阳始终坚持“洁净，让品质更纯粹”的理念。选择心明阳研磨后清洗剂，让每一片玻璃、每一片硅片，从微观层面焕发完美光洁。