某电子陶瓷制造企业在生产高导热氮化铝（AlN）基板过程中，采用精密研磨工艺提升表面平整度。研磨液为水基金刚石悬浮液，虽然加工效果良好，但研磨后陶瓷表面常残留大量微小颗粒和有机物，严重影响后续金属化涂层附着力和产品洁净度。

企业引入一种中性水基研磨后清洗剂，并配合40 kHz超声波清洗设备，建立了一套稳定可靠的清洗流程。该清洗剂配方中包含非离子型表面活性剂、络合剂与分散剂，可有效去除陶瓷表面残留的研磨颗粒和有机污染物，同时对氮化铝材质无腐蚀作用。

先将研磨后的AlN基板放入超声波清洗槽中，加入5%浓度的清洗液，温度控制在50°C，清洗时间为6分钟。之后使用超纯水进行两级漂洗，并通过真空干燥机完成干燥。

该清洗工艺实现了以下效果：表面残留颗粒数量下降90%以上，离子污染控制在10 ppb以下，良品率提升5%。此外，金属化工艺的附着性能也得到显著提升，涂层一致性更加稳定。

选择合适的清洗剂配合超声波设备使用，不仅可以显著提升氮化铝陶瓷的表面洁净度，还能改善下游工艺的稳定性，为高端电子陶瓷制造提供了强有力的工艺保障。

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